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水解沉降粗四氯化钛去除三氯化铝的工艺条件研究

石玉英 , 周云英 , 龚丽菲 , 陈映志

钛工业进展

针对攀枝花钢企欣宇化工有限公司精制车间粗TiCl4水解系统运行中存在的问题,在对水解粗TiCl4去除AlCl3机理深入分析的基础上,进行了粗TiCl4的水解沉降实验,研究了被水解的粗TiCl4中固体杂质的最佳含量、水解粗TiCl4的加水量以及沉降时间,讨论分析了上述因素对粗TiCl4中AlCl3去除率的影响。最终得出,控制粗TiCl4水解沉降工艺的关键点为最佳加水量为理论加水量的1.5倍,被水解的粗TiCl4中固体杂质含量最好调整在15~18 g/L,最佳沉降时间为20 h。

关键词: 四氯化钛 , 三氯化铝 , 水解沉降 , 工艺条件

贫瘦煤为主制备型焦的工艺方案

籍永华 , 秦丙克 , 王春霞 , 石开仪

钢铁

研究了以玉舍贫瘦煤为主要煤种制备型焦的工艺方案,利用正交试验考察了成型煤粒度组成、贫瘦煤配入比例、炭化速率、炭化时间、炭化终温等工艺条件对型焦质量的影响.通过对型焦质量检测结果比较分析,结果表明,最佳的工艺条件为:成型煤粒度小于1 mm,贫瘦煤配入比例70%,炭化速率4℃/min,炭化时间4h,炭化终温900℃,此时制得的型焦符合国家二级冶金焦的要求.

关键词: 贫瘦煤 , 型焦 , 工艺条件 , 正交试验

沉淀法制备低维纳米AlO(OH)的工艺条件研究

段长平 , 李微 , 孙彤 , 刘连利 , 代悦

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.10.019

在不同工艺条件下采用沉淀法制备了低维纳米AlO(OH),并对样品进行了XRD、FT-IR及SEM表征分析.结果表明,pH值较低和较高时,样品的结晶度均较低.反应温度为75℃和95℃时,样品的结晶度均较好,无杂质.当pH值为9.0、反应温度为85℃时,样品中存在大量缔合-OH,AlO(OH)结晶度较好,且有少量Al(OH)3晶体存在.由于SDBS在Al(OH)3颗粒表面形成完整胶束,且有空间位阻效应,此时形成的样品为5 nm厚、长宽可达100~300 nm的边缘卷曲的蓬松片状物,形貌规则、尺寸均匀、分散性较好.

关键词: 纳米 , 低维 , AlO(OH) , 沉淀法 , 工艺条件

Ni-P-SnO2复合镀层的制备及其性能

张菁 , 刘峥 , 郭亚晋 , 莫国芳

腐蚀与防护 doi:10.11973/fsyfh-201609001

利用双脉冲电沉积技术在碳钢基体上制备了Ni-P-SnO2纳米复合镀层.以沉积速率、显微硬度及表面形貌为考察指标,获得制备Ni-P-SnO2纳米复合镀层的最优工艺条件:2 g/L纳米SnO2、电流密度2 A/dm2、镀液温度60℃、电镀时间30~40 min、占空比20%~30%、频率100~150 Hz.通过SEM、XRD技术对Ni-P-SnO2复合镀层的表面形貌、相结构进行了表征;通过电化学测量技术对镀层的电化学行为进行了研究.结果表明:纳米复合镀层表面完整,没有明显的缺陷,纳米SnO2均匀地分布在Ni-P镀层中,硬度高,其耐蚀性能虽不及Ni-P镀层,缓蚀率也高达90%以上.

关键词: 双脉冲电沉积 , 工艺条件 , Ni-P-SnO2纳米复合镀层 , 耐蚀性能

工艺条件对陶瓷模具石膏性能的影响

茹晓红 , 王玉江 , 郭雷明 , 钱跃进

硅酸盐通报

通过对比试验研究了水膏比、搅拌速度、搅拌时间、拌合水温度对模具石膏凝结时间、强度、吸水率性能的影响,并结合SEM、XRD技术探索其影响机理.结果表明:模具石膏成型时合适的工艺条件为水膏比65%~70%,搅拌速度400~500 r/min,搅拌时间2~3 min,拌合水温度25~30 ℃;水膏比、搅拌速度、搅拌时间、拌合水温的变化直接影响了二水石膏的结晶化程度和晶体形态.

关键词: 工艺条件 , 模具石膏 , 凝结时间 , 强度 , 吸水率

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